專利申請誤區(qū)

誤區(qū)一：只有新技術(shù)才能申請專利，許多技術(shù)人員認(rèn)為自己只是在現(xiàn)有產(chǎn)品基礎(chǔ)上做了一點(diǎn)改進(jìn)，技術(shù)含量不高，因此不能申請專利，這種認(rèn)識是不對的。專利申請能不能獲得專利，依據(jù)的是專利法對于專利的審查標(biāo)準(zhǔn)，如新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性等等。

誤區(qū)二：專利的成果不需申請專利來進(jìn)行保護(hù)，一些老板認(rèn)為只要是自主創(chuàng)新，就自動有了自主知識產(chǎn)權(quán)。然而并不是，專利是一種壟斷權(quán)，自主研發(fā)的技術(shù)成果如果不申請專利，就得不到法律確認(rèn)和保護(hù)。當(dāng)他人盜用其研究成果時，因研發(fā)者對成果不具有專利權(quán)，得不到法律保護(hù)，就無法追究盜用者的法律責(zé)任。

誤區(qū)三：必須做出了樣品或產(chǎn)品上市后再申請專利發(fā)明，實(shí)用新型或外觀設(shè)計專利申請可以是對一種技術(shù)方案的保護(hù)，因此，只要有了技術(shù)方案或構(gòu)思，就可以著手進(jìn)行專利申請。從技術(shù)方案形成到制造出樣品或樣機(jī)需要耗費(fèi)一定的時間，如果做出了樣品或產(chǎn)品上市后再申請專利，可能會錯失 專利申請的時機(jī)。

誤區(qū)四：一件產(chǎn)品或一項技術(shù)只能申請一項專利 一件新產(chǎn)品的研發(fā)過程需要攻克多項技術(shù)點(diǎn)，而一件專利往往是針對產(chǎn)品的一個技術(shù)點(diǎn)，因此新產(chǎn)品研發(fā)過程涉及的多項技術(shù)點(diǎn)通常可以形成多件專利。

誤區(qū)五：產(chǎn)品大規(guī)模生產(chǎn)或運(yùn)營后不再 申請專利有些權(quán)利人或者發(fā)明人認(rèn)為申請了一項或幾項專利后，就能永遠(yuǎn)獲得保護(hù)，并且忽視后續(xù)研發(fā)或者申請工作。

誤區(qū)六： 專利申請前不做任何檢索盲目提交有些申請人提交的專利申請文件沒有做專利檢索，對技術(shù)方案的新穎性不確定，根本不知道其技術(shù)方案有沒有被公開過或公開使用過。

誤區(qū)七：先發(fā)表論文或者網(wǎng)站上公開創(chuàng)意設(shè)計后再申請專利有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護(hù)。這種情況在高校老師 申請專利中特別明顯，他們沒有意識到應(yīng)該先申請專利后發(fā)表論文，因此，出現(xiàn)由于公開的論文導(dǎo)致自己專利申請時無新創(chuàng)性被駁回。

誤區(qū)八：忘記繳納年費(fèi)。

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